纽约时装学院留学申请指南

2020-05-23 16:08:19 胡禹佳 美国留学留学美国美国留学申请指南

  美国位于北美洲,经济发达,森林覆盖率高,有着美丽的自然风光。今天,出国留学网小编全面整理了一份纽约时装学院留学申请指南,希望有所帮助。

  纽约时装学院留学基本概况

  纽约时装学院,成立于1944年,位于美国纽约市曼哈顿区。开设专业涉及如时装设计、广告设计、电脑动画及互动媒体、织物设计、室内设计、时装摄影、时尚产品管理等。纽约时装学院在2018年评为全美第1名的时装院校。根据2019年最新的CEOWORLD排名榜,FiT被评为全世界第1名的时装学院,超越了帕森设计学院和包括中央圣马丁在内的伦敦艺术学院众分校。

  纽约时装学院留学历史发展

  纽约州立大学时装技术学院,全称 Fashion Institute of Technology,简称FIT,是国际著名的服装与艺术设计公立院校,成立于1944年。

  当年只有近百人的学生,开设的学科也只有科学管理和设计,学院的创始人莫蒂默希望学院成为“一座像麻省理工学院一样的设计学院”。

  后经过不懈的努力,学院目前已经发展成为具有丰富历史,并在纽约城市经济的冲击下依然屹立不倒的著名学府。

  1951年,纽约时尚设计学院成为纽约市第二大的州立学院。1970年,纽约时尚设计学院被正式授予资格颁发文理学士、硕士学位证书。

  在经历了数十年的成长后,如今的纽约时尚设计学院已经拥有正式学生约有11000多人,开设了30个不同的专业,专业内容紧紧围绕时尚脉搏,如服装设计、形象包装、商品营销、市场营销、广告等。

  每年都有许多美国当地及来自世界各地的海外学生前来求学,可学院有一定的录取率,被录取的学生是非常幸运的,学院还提供许多短期的国际证书课程,供非在校生申请学习。

  学院的校友也多是在流行业界知名的人士,因为学院在流行时尚界的赫赫有名,因此长久以来跟许多企业都保持着良好的合作,为学生提供充分的就业机会。

  纽约时装学院留学地理位置

  学校坐落于美国纽约曼哈顿的第七大道,曼哈顿第七大道的别称是时尚大道(Fashion Avenue)。学校毗邻韩国城、麦迪逊广场花园等地标建筑以及著名的曼哈顿服装区(Garment Distruct)。

  众多优质的面料店坐落于曼哈顿服装区(第七、八大道与35-39街交叠区域),包括常在Project Runway中出现的Mood Fabric。许多时尚品牌和时尚界名人都会到曼哈顿服装区进行面料调研和采购。

  纽约时装学院留学专业设置

  本科专业设置:

  装饰品设计

  广告设计

  广告与营销

  通讯传播设计

  传媒互动时装设计

  艺术美术设计

  图表设计

  室内设计

  珠宝设计

  包装设计

  技术设计

  织物/肌理设计

  玩具设计

  视觉表现及展览设计

  织物式样电影和媒介

  时装营销管理男装

  摄影视觉呈现和展览设计

  研究生专业设置:

  艺术市场

  展览和体验设计

  服装及纺织学

  插画

  服装设计

  化妆品和香水营销管理

  全球时尚管理

  纽约时装学院留学申请要求

  申请截止日期:

  春季:10月1日

  秋季:1月1日

  申请学校之前需要先选择专业,专业不同,作品集的要求也不同。

  申请所需材料:

  1. 官方成绩单

  2. 雅思:最低6.5 托福:最低80

  本科作品集要求

  不同的专业有不同的要求,但总体来说可以借鉴如下标准进行准备:

  作品集主要应由你直接观察的物体组成,以绘画、油画等方式呈现。这些作品可以包括自画像、静物画、人物画、风景画或室内画。

  应该使用如铅笔、水笔、炭笔、油笔等不同媒介完成作品。

  申请者应已具有较强的绘图和二维设计能力,要对色彩有一定的理解。

  构图能力是作品集考察的核心。

  例如室内设计看重房间的移动和两个房间之间的关系;平面设计集中于图像的眼动如何运用到广告中;服装设计考察服装在人体上的流动性。

  你的艺术作品应该能够反映出你对于设计理念和构成的理解,包括如何运用线条、色彩、明暗、平衡和韵律等等因素。

  虽然我们希望看到你直接观察的作品,但并不代表我们不鼓励你展现自己的创造力和设计感。

  使用电脑做出来的艺术虽然不能作为主要作品,但也可以辅助你的作品集申请。

  研究生作品集要求

  展览设计:20个设计作品,包括:AutoCad或Vectorworks草图;Illustrator、InDesign和Photoshop熟练运用;3D作品。

  提交手工创作和其他软件作品有加分。摄影、绘画、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。

  插画:提交15-20个作品,必须包含写生素描,图片格式为LOW-RES(72像素),不符合要求的作品集不会被列入考虑。

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